Workshop microscopia

Avui s'ha acabat el Workshop de Microscopia de la UAB organitzat per la casa Zeiss. Aquesta classe d'esdeveniments van molt bé per trencar la monotonia, per retrobar vells coneguts i companys de professió i per tractar de trobar col·laboracions i sinergies.

Durant el dia d'ahir vaig tenir la oportunitat d'explicar breument durant una xerrada les coses que faig. Vaig parlar de fabricació de nanoestructures electro-mecàniques i de caracterització d'aquestes estructures.

Aquesta és una de les transparències que he fet servir. Crec que aquestes figures resumeixen clarament processos de fabricació fent servir EBL (litografia per feix d'electrons) combinada amb mètodes d'adició i subtracció.

Descripció de passos:
1- És del punt de partida. Simbolitza un xip o una oblea SOI. SOI (Silicon on Insulator) vol dir que tens un substrat de silici (taronja de sota), una capa aillant d'òxid de silici (blau) i cara de components de silici (taronja superior).

2- En aquest pas es neteja el xip o oblea i es diposita una resina sensible als electrons.

3- Aquesta és la etapa de litografia per feix d'electrons. Mitjançant un EBL es controla als electrons perquè exposin la resina a les zones que vulguis fent el disseny desitjat. Tot seguit es revela i la part exposada (que ha vist augmentada la seva solubilitat si es tracta de resina positiva) s'elimina del xip.


Mètode addició:

4a- Aquesta etapa servei per definir pads de metall sobre el xip SOI. Es pot fer servir la tecnologia de Sputtering o la d'Evaporació per fer "ploure" una pluja de metall sobre el xip.

5a- Per lift-off (bany en acetona si hem fet servir com a resina PMMA) s'elimina la resina. Finalment només queda metall a les zones on hem exposat amb l'EBL.


Alternativa, mètode subtracció:

4b- Es fa un gravat sec o humit del xip o oblea. La resina actuarà de màscara protegint el silici que volem preservar i deixant que el procés de gravat remogui silici no protegit.

5b- Es neteja la resina residual. Finalment hem gravat el silici dispositiu just a les zones on havíem fet la litografia EBL.

Los Angeles de Jordi

Una Sala Blanca en Microelectrònica és un espai d’ambient controlat on s’ha reduït la contaminació de partícules i on es fixa unes condicions de temperatura, humitat i sobrepressió amb l’exterior.


La Sala Blanca del IMB-CNM està dividida per àrees:
-Àrea Implantació - Metal·lització
-Àrea de Processos Tèrmics i CVD
-Àrea de Microsistemes i Gravats Humits
-Àrea de Gravats Secs
-Àrea de Fotolitografia
-Àrea de Nanolitografia

Les condicions ambientals dins de l'Àrea de Nanolitografia són d'impulsió d'aire per flux laminar de classe 100 (menys de 100 partícules de diàmetre 0,5micròmetres per peu cúbic). Tª 21ºC i humitat 40%. Això cada dia de l'any a cada hora.


Per poder entrar a la Sala Blanca de l'IMB-CNM t'has de vestir de la següent forma:

Si et trobes en perill posat en contacte amb nosaltres! Els Àngels d'en Jordi et salvaran ;)

Estem de portes obertes!!

Si algú te interès en coneixer la maquinària de Sala Blanca aquesta setmana pot!
En motiu de la setmana de la ciència l'espai Museístic de Microelectrònica Zenon Navarro (situat al IMB-CNM, campus UAB) estarà obert al públic.

Nano-peineta

A banda de les aplicacions científico-tecnològiques que es poden trobar al nanomón, una imatge de microscopia d'una nanoestructura també pot servir de base d'un disseny artístic.

Aquest és el cas de la nanopeineta que va idear i realitzar la dissenyadora i il·lustradora Nekein (nekeindesign.blogspot.com/).

Veieu la nanoestructura?

Ciència Ficció

La Ciència Ficció mola bastant. Adjunto Guia esquemàtica de llibres de ciència ficció , la he trobat molt interessant.

Actualment m'estic llegint "20000 Leagues Under The Sea" de Jules Verne. I perquè en anglès? Perquè a l'escola ens suggereixen que llegim 3 llibres en anglès. De moment el llibre pinta bé.

Aquesta il·lustració és d'Scott Daly (scottdaly.com)

I parlant d'il·lustradors ahir vaig gaudir de l'estrena d'un curt d'estètica Steam Punk caracteritzat per l'amic i il·lustrador en Chumi (christiangranero.blogspot.com).

Una gran feina titan!

Vota

Just avui comencen les votacions!

No em refereixo a la campanya electoral dels de sempre. Em refereixo a les votacions del Fotciencia'11 (l'esdeveniment més important i geek del món!). Només per participar pots guanyar un Apple iPad amb Wi-Fi 16 GB. Està força bé.

Penjo la imatge amb el link i la seva descripció:

(link a la votació)

Aquesta imatge mostra un mètode de fabricació i prototipatge flexible i d’alta resolució que permet crear estructures nanomètriques en 3 dimensions. 


Aquest mètode sorgeix de la combinació de 2 mètodes de fabricació i s’aprofita dels seus avantatges: 
- Nanofabricació: gran control dimensional sobre les estructures fabricades; 
- Microfabricació: alt rendiment de fabricació 


La primera etapa consisteix de realitzar un patró sobre un substracte de silici (un xip) mitjançant implantació iònica de gal•li. Aquest pas es realitza mitjançant un FIB (Feix d’Ions Focalitzat), una eina molt comú per fer nano-prototipatge (gran control dimensional). 


La segona etapa permet, mitjançant la tecnologia microelectrònica del gravat humit, atacar tot el silici no implantat permetent augmentar el rendiment per fabricar nanoestructures, fins i tot en 3D. 


Finalment, amb aquest exemple de nanoprovetes (o nano-Rovellons) queda demostrada la gran capacitat de fabricació de nanoestructures 3D fruit de la combinació de les micro i les nano tecnologies.

Mosca? On és la mosca?

Aquesta imatge de microscopia electrònica mostra una palanca fixada per un dels seus extrems. A l'extrem lliure es pot observar una estructura de "reixa". Després de fer la inspecció del procés de fabricació s'observa que l'estructura ha sobreviscut a totes les etapes tecnològiques tot i que queda lleugerament estressada (d'aquí la seva inclinació) segurament després de l'etapa de gravat humit.

Aquesta mostra pertany a la investigadora Laura Barrachina de l'empresa de Terrassa Baolab que es dediquen a dissenyar, fabricar i caracteritzar NanoEMS (TM). Em fa especial il·lusió col·laborar amb empreses tecnològiques ubicades al nostre país. Tot i ser petits oasis tecnològics dins d'un gran desert son un clar exemple que demostra que, si volem, podem.

Si t'emprenya alguna micro-mosca avisa'ns, escriu una resposta a aquest post i t'enviarem un mata-mosques microscopic 100% homologat. També vàlid per acabar amb el micro-mosquit-tigre!

Nanobobines fabricades per FIB (Focused Ion Beam)

Aquesta imatge SEM (microscopi electrònic d'escombrat) mostra unes bobines fabricades per FIB (feix de ions focalitzat) sobre unes peces de polisilici. Amb aquestes peces de polisilici treballades mitjançant eines nanolitogràfiques s'està fent experiments sobre cèl·lules vives.

L'empresa Alemanya RAITH (fabricant d'equips de litografia electrònica i iònica) va seleccionar aquesta imatge per publicar-la al mes d'Abril del calendari de 2009. Apareixer en aquest calendari és tot un honor ja que no deixa de ser un reconeixement i promoció mundial de la feina feta.

Per tant, la Marta Duch i un servidor (ambdós Enginyers-Investigadors de l'Institut de Microelectrònica de Barcelona) som "Miss&Mister April" del calendari Raith 2009. Per fi les nostres hores de gimnàs han estat recompensades.