dilluns, 21 de novembre de 2016

Evaluating the compressive stress generated during fabrication of Si doubly clamped nanobeams with AFM


En aquest treball que acabem de publicar al "Journal of Vacuum Science & Technology B", hem emprat el mètode de "Peak Force tapping" i espectroscòpia de força per avaluar l'estrès generat durant la fabricació de nano-palanques suspeses de silici doblement ancorades de secció rectangular. Les nano-palanques, alliberades al darrer estadi de fabricació, presenten curvatura que suggereix comportament biestable, típic d'estructures que retenen un estrès compressiu residual. L'estrès residual i el Mòdul de Young han sigut extrets de dades experimentals emprant dues metodologies diferents: a) anàlisi dels perfils de defecció de les nano-palanques i b) flexió mecànica induïda amb una punta d'AFM. Els resultats dels dos mètodes han estat comparats aportant informació de les limitacions dels dos mètodes.



Cap comentari:

Publica un comentari a l'entrada